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                      酸性鍍銅添加劑三維平衡

                      時間:2018-06-13 14:27??來源:安迪發科技??作者:高速鍍銅添加劑??點擊:

                        酸性鍍銅添加劑工藝上分為抑制劑A、加速劑B、開缸劑C。我們可以從位置、大小、陰陽屬性三個角度重新將A、B、C分類,便于快速準確定位工藝故障和迅速排除故障。

                        一、位置:

                        按照三種添加劑主要吸附赫氏槽試片或鍍件高低電位的特征可分為,抑制劑A高電位優先吸附,且稱“高位劑”;加速劑B易于吸附作用于過電位較小的深位、低洼,且稱“低位劑”;開缸劑C高低位均勻吸附,且稱為“中位劑”。開缸劑C中含有20%左右的加速劑B,比抑制劑A抑制性更強的強走位劑及大量表面活性劑。只有其中的B劑顯示位置極性。故,我們可以得到添加劑的極性位置均衡式:

                        位置均衡:A≈B+C

                        二、大?。?/span>

                        按照三種添加劑分子大小特征可分為高分子,大分子,小分子三種,高分子一般是大分子的幾百到幾萬倍,大分子是小分子的幾十倍。開缸劑C主要組分是高分子,抑制劑A主要組分是大分子,加速劑B主要組分是小分子。故,我們可以得到添加劑的分子大小搭配均衡式:

                        大小均衡:C≈A+B

                      高速鍍銅添加劑

                        三、陰陽屬性:

                        按照三種添加劑對陰極反應速度即陰極極化度的貢獻特征可分為陽性,陰性兩種,能夠加速陰極反應降低陰極極化度的稱為“陽性劑”,能夠抑制陰極反應速度提高陰極極化度的稱為“陰性性劑”,抑制劑A和開缸劑C均屬陰性,加速劑B則屬陽性。故,我們可以得到添加劑分子陰陽搭配的陰陽均衡式:

                        陰陽均衡:B≈A+C.

                        酸性鍍銅抑制劑A、加速劑B和開缸劑C三種添加劑在鍍液中必須同時滿足位置均衡、大小均衡和陰陽均衡,才是正在意義上的均衡,且稱“完全均衡”或“三度均衡”,只有三度均衡,才能將添加劑的作用發揮到極致。

                        我們以位置、大小、陰陽屬性三維坐標來定位高速鍍銅添加劑的搭配情況,借助于10分鐘、0.25A的赫氏槽試片,就能準確定位抑制劑A、加速劑B和開缸劑C三種添加劑的多寡,比如鏡面填平寬度太窄,低位很容易發黑,那一定是大小失衡,開缸劑C>>A+B,應逐步提高A、B劑對開缸劑C的比例。


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